SC200-DE勻膠顯影機(jī)介紹 　　

SC200-DE勻膠顯影機(jī)是一種既可用于精密勻膠操作，又可用于半導(dǎo)體顯影和清洗的臺(tái)面式設(shè)備，它可以實(shí)現(xiàn)價(jià)值百萬美元設(shè)備（track）的上才可能達(dá)到穩(wěn)定性和均勻性。 　　不銹鋼外殼比塑料或者烤漆金屬更耐久和美觀；工業(yè)級(jí)別400瓦伺服電機(jī)系統(tǒng)，采用與track設(shè)備相同設(shè)計(jì)和程序，使您的工藝更具有實(shí)際應(yīng)用意義；同類產(chǎn)品中的zui大達(dá)到50000RPM/S的旋轉(zhuǎn)加速度，確保勻膠和顯影的穩(wěn)定性和*的可重復(fù)性。 主要性能指標(biāo)： 主機(jī)機(jī)箱采用不銹鋼材料（抗化學(xué)腐蝕易清潔） 旋涂程序：zui多可存100組程序，每組100步，每個(gè)步驟可精確到0.1秒 轉(zhuǎn)動(dòng)速度：0-5,000rpm（更高速可選） 旋涂加速度：0-10,000rpm/sec（空載） 馬達(dá)旋涂轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性能誤差 < ±1rpm 轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)精度<1rpm，重復(fù)性< 1rpm 工藝時(shí)間設(shè)定： 0-3,000 sec/step，時(shí)間設(shè)置精度：0.1sec 支持wafer尺寸1cm-300mm（12“圓晶） 標(biāo)準(zhǔn)配置兩路噴液系統(tǒng)（顯影液和去離子水） 產(chǎn)品特性優(yōu)點(diǎn)： 主機(jī)在SC200-SE勻膠機(jī)上升級(jí)，增加耐腐蝕高分子材料防濺式罩蓋 全程序編輯功能，更方便的智能化操作，更好的顯影/清洗效果 可實(shí)現(xiàn)zui多獨(dú)立四路噴液用于顯影/清洗工作，或進(jìn)行氮?dú)獯蹈?控制器可實(shí)現(xiàn)程序自動(dòng)控制噴液或進(jìn)行手動(dòng)操作，使用更加方便 顯影系統(tǒng)可進(jìn)行噴霧式、柱流式多種選擇，視要求進(jìn)行配置 提供客戶定制化的顯影系統(tǒng)配置和工裝設(shè)計(jì) 高可靠性和重復(fù)性，高轉(zhuǎn)速精度和更高轉(zhuǎn)速可選 可添加去邊膠和背膠清洗功能